用于光阻剂之清洁溶液及使用该溶液形成图案之方法

摘要

本发明揭示一种光阻剂之清洁溶液，其可用于形成光阻剂图案之显影最终步骤中清洁半导体基材。又，揭示一种使用该溶液形成光阻剂图案之方法。所揭示之清洁溶液包括H2O作为溶液、式1所示之磷酸盐-醇胺盐之界面活性剂、及醇化合物。所揭示之清洁溶液比用于知清洁溶液之蒸馏水具有更低之表面张力，因而可改善对光阻剂图案坍塌之抗性并可稳定形成光阻剂图案。092134395-p01.bmp其中R、x、y、z、a及b如说明书中定义。