| 摘要 |
至少一示范具体实施例系针对一用于曝光基板之曝光设备。该曝光设备包含一可运动之基板工作台；一投射光学系统，其组构成可投射来自一原件之光线，且包含一最后光学元件；及一喷嘴构件，其提供环绕着该最后之光学元件，且包含一相向于该基板之相向表面。该基板系经由液体、该投射光学系统、及该原件曝光，该液体充填于该投射光学系统的一最后表面及该基板之间。该相向之表面包含一供给通口；第一回收通口，其提供比该供给通口更远离该最后光学元件之光轴；及第一部份与第二部份，其提供于该供给通口及该第一回收通口之间。该第一部份及该基板间之距离系比该供给通口及该基板间之距离较长。 |
