| 摘要 |
<p>Es wird ein Verfahren zur Herstellung von Schichten mit hochharten und/oder reibarmen Eigenschaften, insbesondere auf der Basis mikro- oder nanodisperser Carbid-Kohlenstoffschichten vorgeschlagen. Dabei wird in einem Vakuum auf einem elektrischen Potential befindliches Targetmaterial in ein Targetplasma überführt. Das Targetplasma gelangt auf das Substrat, das auf einem annähernd gleichen oder einem höheren elektrischen Potential als das Targetmaterial liegt, um dort die gewünschte Schicht auszubilden. Das Targetmaterial wird aus Vanadium gebildet, wobei das Vanadium mittels eines Lichtbogens zu einem Vanadiumplasma verdampft wird. Die Überführung des Vanadiums als Targetmaterial in das Plasma erfolgt in der Gasphase ionisierten Kohlenstoffs. Das Verfahren wird derart betrieben, daß dabei Vanadiumcarbid und Kohlenstoff entsteht, wobei Vanadiumcarbid und Kohlenstoff auf dem Substrat die sich nachfolgend ausbildende Schicht bilden.</p> |
