Process for depositing layers on substrates and vacuum-coating apparatus for carrying out the process.

摘要

Um bei der Beschichtung von Substraten mittels magnetfeldunterstützter Kathodenzerstäubung Schichten grösserer Dichte und Kompaktheit als bisher zu erhalten, wird beim Schichtaufbau ein gewisser Anteil von durch Verdampfung von der Anode oder Kathode einer elektrischen Bogenentladung gewonnener Metalldampf auf den Funktionsflächen der Substrate zusammen mit dem zerstäubten Material niedergeschlagen und zwar im zeitlichen Mittel mindestens 5 Atomprozente des insgesamt aufzubringenden Metallanteils der Schicht. Eine geeignete Vakuumbeschichtungsanlage zur Durchführung des Verfahrens weist innerhalb einer Vakuumkammer eine Einrichtung zur Verdampfung eines Teiles des schichtbildenden Materials mittels einer elektrischen Bogenentladung und eine weitere Einrichtung zur magnetfeldunterstützten Zerstäubung eines anderen Teiles des schichtbildenden Materials auf.