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发明名称
PHOTORESIST COMPOSITION
摘要
申请公布号
EP0143380(B1)
申请公布日期
1989.02.15
申请号
EP19840113573
申请日期
1984.11.10
申请人
MERCK PATENT GESELLSCHAFT MIT BESCHRANKTER HAFTUNG
发明人
HARTNER, HARTMUT, DR.;MERREM, HANS-JOACHIM, DR.;KLUG, RUDOLF, DR.
分类号
C08F2/00;C08F2/50;C08G73/00;C08G73/12;G03F7/004;G03F7/012;G03F7/027;G03F7/031;G03F7/037;G03F7/038;(IPC1-7):G03C1/70;G03C1/68;G03F7/10
主分类号
C08F2/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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