发明名称 PHOTORESIST COMPOSITION
摘要
申请公布号 EP0143380(B1) 申请公布日期 1989.02.15
申请号 EP19840113573 申请日期 1984.11.10
申请人 MERCK PATENT GESELLSCHAFT MIT BESCHRANKTER HAFTUNG 发明人 HARTNER, HARTMUT, DR.;MERREM, HANS-JOACHIM, DR.;KLUG, RUDOLF, DR.
分类号 C08F2/00;C08F2/50;C08G73/00;C08G73/12;G03F7/004;G03F7/012;G03F7/027;G03F7/031;G03F7/037;G03F7/038;(IPC1-7):G03C1/70;G03C1/68;G03F7/10 主分类号 C08F2/00
代理机构 代理人
主权项
地址