| 发明名称 |
PROCESS FOR THE DEPOSIT OF SILICON COMPOUND OPTICAL LAYERS BY CATHODIC SPUTTERING, AND SPUTTER CATHODE FOR THIS PROCESS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE3566274(D1) |
申请公布日期 |
1988.12.22 |
| 申请号 |
DE19853566274 |
申请日期 |
1985.04.26 |
| 申请人 |
LEYBOLD AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
WIRZ, PETER, DR. |
| 分类号 |
C23C14/34;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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