| 发明名称 |
Method for selective surface treatment of semiconductor structures |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
US4789646(A) |
申请公布日期 |
1988.12.06 |
| 申请号 |
US19870075365 |
申请日期 |
1987.07.20 |
| 申请人 |
NORTH AMERICAN PHILIPS CORPORATION, SIGNETICS DIVISION COMPANY |
发明人 |
DAVIS, MARK A. |
| 分类号 |
H01L21/306;H01L21/312;(IPC1-7):H01L21/38;H01L21/47 |
主分类号 |
H01L21/306 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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