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发明名称 POLYMER COMPOSITION FOR PHOTORESIST APPLICATION
摘要
申请公布号 EP0205319(A3) 申请公布日期 1988.11.30
申请号 EP19860304321 申请日期 1986.06.06
申请人 W.R. GRACE & CO. 发明人 LIN, WEI YUAN
分类号 C08G63/00;C08G18/67;C08G18/81;C08G63/68;C08G63/91;C08G64/42;C08G65/00;C08G65/32;G03F7/038;(IPC1-7):C08G63/76;H01L21/47;G03F7/02 主分类号 C08G63/00
代理机构 代理人
主权项
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