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Es wird ein durch Strahlung polymerisierbares Gemisch beschrieben, das ein polymeres Bindemittel, einen strahlungsinitiierten Polymerisationsinitiator und eine polymerisierbare Verbindung der allgemeinen Formel I <IMAGE> R Alkyl, Hydroxyalkyl oder Aryl, R¹ und R² jeweils H, Alkyl oder Alkoxyalkyl, R³ H, Methyl oder Ethyl, X¹ eine Kohlenwasserstoffgruppe, X² eine (c+1)-wertige Kohlenwasserstoffgruppe, in der bis zu 5 Methylengruppen durch Sauerstoffatome ersetzt sein können, D¹ und D² jeweils eine Kohlenwasserstoffgruppe, E eine Kohlenwasserstoffgruppe, eine cycloaliphatische Gruppe, die ggf. bis zu zwei N-, O- oder S-Atome als Ringglieder enthält, eine Arylengruppe oder eine heterocyclische aromatische Gruppe, a 0 oder eine Zahl von 1 bis 4, b 0 oder 1, c eine Zahl von 1 bis 3, m 2, 3 oder 4 und n eine ganze Zahl von 1 bis m bedeutet. Das Gemisch ist durch hohe Strahlungsempfindlichkeit und gute Lagerfähigkeit ausgezeichnet und zur Herstellung von Druckplatten und Photoresists geeignet.
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