| 摘要 |
<P>DISPOSITIF DE SUPPRESSION DES PROJECTIONS DE MICRO-GOUTTELETTES DE MATIERE EMISES PAR UNE SOURCE D'IONS A ARC SOUS VIDE COMPORTANT UNE CATHODE 2 EMISSIVE D'UN PLASMA 1, ET UNE ANODE 3 CONVENABLEMENT POLARISEES, ET DANS LEQUEL L'ELIMINATION DES MICRO-PROJECTIONS EST EFFECTUEE PAR DES MOYENS DE RECUPERATION CONSTITUES PAR DES RECEPTACLES 7, 10 POLARISES OU NON, OU PAR DES MOYENS DE SEPARATION DES MICRO-GOUTTELETTES DU PLASMA 12A, 12B, LA COMBINAISON DE CES MOYENS ASSURANT UNE ELIMINATION TOTALE DES MICRO-PROJECTIONS.</P><P>APPLICATION AUX IMPLANTEURS D'IONS.</P>
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