| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Entwicklergemisch, das frei von organischen Lösemitteln ist und einen pH-Wert von etwa 6,5 bis 7,5 aufweist, enthaltend a) 0,1 bis 20 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, mindestens einer Verbindung aus der Gruppe umfassend Natriumoctylsulfat, Natriumtetradecylsulfat, Natrium-2-ethyl-hexylsulfat und Ammoniumlaurylsulfat, b) 0,1 bis 30 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, mindestens einer Verbindung aus der Gruppe umfassend die Lithiumsalze der Hydroxy-, Aryl- und Alkylcarbonsäuren, c) 0,1 bis 30 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, mindestens einer Verbindung aus der Gruppe umfassend die Kaliumsalze der Hydroxy-, Aryl- und Alkylcarbonsäuren, d) gegebenenfalls eine organische oder anorganische, mit dem übrigen Gemisch kompatible Säure oder Base, in einer jeweils zur Einstellung des Entwicklergemischs auf einen pH-Wert zwischen 6,5 und 7,5 ausreichenden Menge, e) gegebenenfalls bis zu 0,05 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, eines Entschäumungsmittels sowie, f) Rest an Wasser bis zu einer Gesamtmenge von 100 Gew.-%. Das Gemisch ist besonders zur Entwicklung belichteter, negativ arbeitender Platten mit einem Träger aus Aluminium geeignet.</p> |
