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Le procédé décrit permet de préparer des polymères précéramiques et comprend les étapes suivantes: (1) réaction en solution d'ammoniaque anhydre avec un mélange de R1SiX2 (où R1 est un groupe alkyle inférieur ayant de 1 à 6 environ atomes de carbone, un groupe cycloalkyle substitué ou non substitué ayant de 3 à environ 6 atomes de carbone, un groupe alkényle inférieur substitué ou non substitué ayant de 2 à environ 6 atomes de carbone, ou un groupe aryle inférieur substitué ou non substitué ayant de 6 à environ 10 atomes de carbone, et X est un halogène) et RSiX3 (où R représente H, un groupe alkyle inférieur ayant de 1 à environ 6 atomes de carbone, un groupe cycloalkyle substitué ou non substitué ayant de 3 à environ 6 atomes de carbone, un groupe alkényle inférieur substitué ou non substitué ayant de 2 à environ 6 atomes de carbone, un groupe aryle inférieur substitué ou non substitué ayant de 6 à environ 10 atomes de carbone), formant ainsi un mélange de polymères précurseurs; et la réaction des polymères précurseurs en présence d'un catalyseur basique capable de déprotoniser les fonctions NH dans les polymères précurseurs pour former le polymère précéramique. De préférence, ce polymère précéramique est traité avec un composé électrophile. La pyrolysation du polymère dans un courant de gaz inerte ou dans une atmosphère d'ammoniac pour former un matériau céramique est également décrite. Dans un mode de réalisation différent, le silylamide polymère qui est formé par réaction en solution d'ammoniaque anhydre avec un mélange de R1SiHX2 (où R1 et X sont décrits ci-dessus) et R2SX3 (où R2 est décrit ci-dessus) peut être utilisé pour former un polymère précéramique différent et utile en le faisant réagir avec un polymère d'organosilicium contenant des unités répétitives Si-H. Le polymère d'organo silicium contenant les unités Si-H est sélectionné de préférence dans le groupe constitué d'organopolysilanes de formule [(RSiH)x(RSi)y]n (où R représente un groupe alkyle inférieur ayant de 1 à environ 6 atomes de |
