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发明名称 SYSTEMS AND METHODS FOR ION SOURCE CONTROL IN ION IMPLANTERS
摘要
申请公布号 EP0215626(A3) 申请公布日期 1988.07.27
申请号 EP19860306924 申请日期 1986.09.08
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 PLUMB, FREDERICK;WRIGHT, CHRISTOPHER;BRIGHT, NICHOLAS JOHN;AITKEN, DEREK;HARRISON, BERNARD
分类号 H01L21/265;H01J27/02;H01J27/14;H01J37/08;H01J37/24;H01J37/248;H01J37/317;(IPC1-7):H01J37/317 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人
主权项
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