发明名称 HIGH-FREQUENCY DISCHARGE-EXCITED LASER UNIT
摘要 Laser à haute fréquence à excitation par décharge, dans lequel des électrodes auxilaires (3) sont montées à proximité des électrodes principales (21), (22) à la périphérie externe d'un tube de décharge (1), de sorte qu'une décharge auxiliaire se produit entre les électrodes principales et les électrodes auxiliaires, en plus de la décharge principale se produisant entre les électrodes principales. Par conséquent, même dans des conditions de faible alimentation électrique, une décharge à haute fréquence est maintenue pour entretenir l'oscillation du faisceau laser. La plage de sortie du faisceau laser est ainsi élargie, ce qui permet d'exécuter un finissage de grande précision.
申请公布号 WO8804844(A1) 申请公布日期 1988.06.30
申请号 WO1987JP01012 申请日期 1987.12.22
申请人 FANUC LTD 发明人 EGAWA, AKIRA
分类号 H01S3/03;H01S3/038;H01S3/0975;H01S3/0977;(IPC1-7):H01S3/03 主分类号 H01S3/03
代理机构 代理人
主权项
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