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经营范围
发明名称
HIGH-SPEED FORMATION OF SILICON NITRIDE FILM
摘要
申请公布号
JPH02205680(A)
申请公布日期
1990.08.15
申请号
JP19890026172
申请日期
1989.02.03
申请人
SEMICONDUCTOR ENERGY LAB CO LTD
发明人
SATO TOMOHIKO
分类号
C23C16/34;C23C16/48
主分类号
C23C16/34
代理机构
代理人
主权项
地址
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