DISPOSITIF DE DOSAGE ELEMENTAIRE EN MILIEU RADIOACTIF PAR FLUORESCENCE INDUITE PAR LASER DANS UN PLASMA HAUTE FREQUENCE

摘要

DISPOSITIF DE DOSAGE ELEMENTAIRE EN MILIEU RADIOACTIF PAR FLUORESCENCE INDUITE PAR LASER DANS UN PLASMA HAUTE FREQUENCE.

LE DISPOSITIF COMPREND UNE TORCHE A PLASMA 10-14 POUR CREER DANS UNE ENCEINTE 2 ETANCHE UN PLASMA HF 16 ET INJECTER DANS CE PLASMA UN ECHANTILLON 6 CONTENANT UN ELEMENT A DOSER; UN LASER 18 EMETTANT DES IMPULSIONS DE LONGUEUR D'ONDE ET DE LARGEUR SPECTRALE APPROPRIEE A L'EXCITATION DE L'ELEMENT; DES PRISMES 22, 24 POUR ENVOYER LES IMPULSIONS LASER DANS LE PLASMA AFIN QUE L'ELEMENT EMETTE PAR FLUORESCENCE DES IMPULSIONS LUMINEUSES; UNE LENTILLE 46 POUR CONJUGUER LA ZONE EXCITEE 36 DU PLASMA PAR LE LASER SUR UN SPECTROMETRE 42 SELECTIONNANT ET TRANSFORMANT LES IMPULSIONS EMISES PAR L'ELEMENT EN UN SIGNAL ELECTRIQUE; UNE ELECTRONIQUE 48, 50 POUR TRAITER LE SIGNAL ELECTRIQUE ISSU DU SPECTROMETRE DE MANIERE SYNCHRONE AVEC LES IMPULSIONS LASER ET DES MOYENS 52 POUR DETERMINER A PARTIR DU SIGNAL ELECTRIQUE TRAITE, LA QUANTITE DE L'ELEMENT CONTENU DANS L'ECHANTILLON.