| 发明名称 |
METHOD OF FORMING CONTIGUOUS SELF-ALIGNED IMPLANTED SEMICONDUCTOR REGIONS AND METHOD OF FORMING AN INTEGRATED CMOS STRUCTURE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0127335(B1) |
申请公布日期 |
1987.09.02 |
| 申请号 |
EP19840302894 |
申请日期 |
1984.04.30 |
| 申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION |
发明人 |
GENDA, JAMES HU |
| 分类号 |
H01L21/265;H01L21/033;H01L21/762;H01L21/8238;H01L27/08;H01L27/092;(IPC1-7):H01L21/265;H01L21/76 |
主分类号 |
H01L21/265 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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