发明名称 |
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITIONS HAVING DEEP UV RESPONSE, PHOTOSENSITIVE ELEMENTS AND THERMALLY STABLE PHOTOCHEMICALLY IMAGED SYSTEMS CONTAINING SAME |
摘要 |
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申请公布号 |
EP0140273(A3) |
申请公布日期 |
1987.06.24 |
申请号 |
EP19840112439 |
申请日期 |
1984.10.16 |
申请人 |
ALLIED CORPORATION |
发明人 |
HOPF, F. R.;OSUCH, C. E.;MCFARLAND, M. J. |
分类号 |
G03F7/20;C08F22/36;C08F22/40;C08G73/12;C08L33/24;C08L35/00;G03C1/72;G03C5/08;G03F7/004;G03F7/023;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/10 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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