首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 NEGATIVE WORKING ELECTRON BEAM RESIST SYSTEM TO BE DRY-DEVELOPED
摘要
申请公布号 EP0141311(A3) 申请公布日期 1987.06.16
申请号 EP19840112183 申请日期 1984.10.11
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 KAPLAN, LEON H.;KAPLAN, RICHARD DEAN
分类号 H01L21/027;G03F7/038;G03F7/30;G03F7/36;(IPC1-7):G03F7/10 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com