| 发明名称 |
BAIN A L'HYDRAZINE POUR LE DEPOT CHIMIQUE DE NICKEL ET/OU DE COBALT, ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN TEL BAIN. |
| 摘要 |
<P>Le bain contient comme source du métal à déposer le nickel-II-tri(éthylènediamine) hydroxyde et/ou le cobalt-II-tri(éthylènediamine) hydroxyde de formule M(NH2-C2-NH2)3(OH)2, dans laquelle M représente le nickel et/ou le cobalt, l'éthylène-diamine jouant le rôle de complexant.</P>
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| 申请公布号 |
FR2590595(A1) |
申请公布日期 |
1987.05.29 |
| 申请号 |
FR19850017339 |
申请日期 |
1985.11.22 |
| 申请人 |
ONERA |
发明人 |
PIERRE JEAN ALEXIS MARIE JOSSO, ISABELLE, VERONIQUE, CATHERINE GOSSART ET CLAUDE DURET-THUAL;ISABELLE;VERONIQUE;GOSSART CATHERINE;DURET-THUAL CLAUDE |
| 分类号 |
C07F15/04;C07F15/06;C23C18/34;(IPC1-7):C23C18/34 |
主分类号 |
C07F15/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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