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经营范围
发明名称
METHOD FOR PLASMA ETCHING OF SILICON NITRIDE FILM
摘要
申请公布号
JPS6281716(A)
申请公布日期
1987.04.15
申请号
JP19850223034
申请日期
1985.10.07
申请人
VICTOR CO OF JAPAN LTD
发明人
OGAWA WATARU
分类号
H01L21/302;C23F4/00;H01L21/3065
主分类号
H01L21/302
代理机构
代理人
主权项
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