发明名称 复合磁控溅射靶及其镀膜方法
摘要 一种磁控溅射靶装置,由至少两个可调场强的电磁单元拼装而成。这些单元共用一个阴极靶板和溅射电源。各个单元的靶面场强可以通过各自的电磁铁分别加以调节,从而实现各单元的功率分别调节。各个单元可以单独使用或同时使用。当各个单元分别采用异种材料的靶材时,该溅射装置可以实现镀制各种金属材料(包括铁磁材料)的合金膜,并实现合金膜成份的连续调节。
申请公布号 CN85105634A 申请公布日期 1987.01.28
申请号 CN85105634 申请日期 1985.07.25
申请人 清华大学 发明人 范玉殿
分类号 C23C14/34;C23C14/54 主分类号 C23C14/34
代理机构 清华大学专利事务所 代理人 张善余
主权项 1、一种复合磁控溅射靶装置,其特征在于是由两个或两个以上可调场强的电磁单元拼装而成的,这些单元共用一个阴极和同一个溅射电源,且单元具有各自独立的励磁电流源,并在阴极靶板内表面产生各自独立的跑道磁场。
地址 北京市海淀区清华园