发明名称 供丛讯模式光发射器用之次临限偏压控制
摘要 本发明系一种用于驱动一光学传送器之雷射之方法及装置。于调整模式期间,一次临限电路提供一次临限电流,以调整来自一次偏压电流源之偏压电流。于一操作模式期间,调制电路系连接到次临限电路以产生第一调制电流。第一调制电流包括一第二调制电流及次临限电流。第一调制电流及偏压电流形成一驱动电流以驱动雷射。
申请公布号 TW496047 申请公布日期 2002.07.21
申请号 TW089121319 申请日期 2000.10.12
申请人 美士美积体产品公司 发明人 葛利N 林克;汤马斯E 菲瑞妮
分类号 H04B10/155;H01S5/0683 主分类号 H04B10/155
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种用于驱动光发射器中雷射之方法,此方法包 括: 于调整模式期间,经一次临限电路,提供一次临限 电流以调整来自偏压电流源之偏压电流;及 于一操作模式期间,经一调制电路产生一第一调制 电流,第一调制电流包括第二调制电流及次临限电 流,该第一调制电流及偏压电流形成一驱动电流以 驱动雷射。2.如申请专利范围第1项之方法,其中提 供次临限电流包括: 经一次临限电流源产生次临限电流于一低于临限 位准之预定位准;及 于调整模式期间,经一次临限开关,连接次临限电 流源到偏压电流源。3.如申请专利范围第2项之方 法,其中产生第一调制电路包括: 基于一调制控制数量,经由一调制电流源产生第二 调制电流;及 于操作模式期间,经调制开关,连接调制电流源及 次临限电流源,以产生第一调制电流。4.如申请专 利范围第3项之方法,其中连接临限电流源到偏压 电流源,包括经一临限控制电路所控制之次临限开 关,为了于调整模式期间.次临限电流源系连接到 偏压电流源,及于操作模式期间,调制电流源以提 供第一调制电流。5.如申请专利范围第4项之方法, 其中调整系执行于一经由完全服务存取网路(FSAN) 规格所定义之时间间隔期间。6.如申请专利范围 第5项之方法,其中临限位准系选定为将来自一雷 射之光强度分离成为光高位准及光学低位准。7. 如申请专利范围第6项之方法,其中预定位准系选 定为使光学低位准足够大到能够精确之检测及控 制。8.一种用于驱动一光发射器之雷射之装置,此 装置包括: 于调整模式期间,次临限电路提供次临限电流以调 整来自偏压电流源之偏压电流;及 于操作模式期间,调制电路连接到次临限电路以产 生第一调制电流,第一调制电流包括第二调制电流 及次临限电流,第一调制电流及偏压电流形成驱动 电流以驱动雷射。9.如申请专利范围第8项之装置, 其中次临限电路包括: 次临限电流源,其产生次临限电流于一低于临限位 准之预定位准;及 一次临限开关,其于调整模式期间,次临限开关连 接到次临限电流,以连接次临限电流源到偏压电流 源。10.如申请专利范围第9项之装置,其中调制电 路包括: 一第二调制电流源,其基于调制控制数量,产生调 制电流源;及 一调制开关其于操作模式期间,连接到调制电流源 及次临限开关,以连接调整电流源及次临限电流源 ,以产生第一调制电流。11.如申请专利范围第10项 之装置,其中次临限开关系经由临限控制电路所控 制,为了于调整模式期间,次临限电流源系连接到 偏压电流源,及于操作模式期间,调制电流源以提 供第一调制电流。12.如申请专利范围第11项之装 置,其中调整系执行于一经由完全服务存取网路( FASN)规格所定义之时间间隔期间。13.如申请专利 范围第12项之装置,其中临限位准系选择以分离来 自雷射之光强度成为光高位准及光学低位准。14. 如申请专利范围第13项之装置,其中预定位准系选 定成使光学低位准足够大到能够精确检测及控制 。15.一种光发射器,包括; 一雷射,系反应于驱动电流以放射光辐射;及 一驱动电路,系产生驱动电流以驱动雷射,驱动电 路包括: 一次临限电路,系于调整模式期间提供次临限电流 ,以从偏压电流源调整偏压电流,及 一调制电路,系于操作模式期间连接到次临限电路 ,以产生第一调制电路,第一调制电流包括第二调 制电流及次临限电路,第一调制电流及偏压电流形 成驱动电流以驱动雷射。16.如申请专利范围第15 项之光发射器,其中次临限电路包括: 一次临限电流源,产生次临限电流于一低于临限位 准之预定位准;及 一次临限开关,系于调整模式期间连接到次临限电 流源,以连接次临限电流源到偏压电流源。17.如申 请专利范围第16项之光发射器,其中调制电路包括: 一调制电流源,系基于调整控制数量以产生第二调 制电流;及 一调制开关,系于操作模式期间连接到调制电流源 ,及次临限开关,以连接调整电流源及次临限电流 源,以产生第一调制电流。18.如申请专利范围第17 项之光发射器,其中次临限开关系经临限控制电路 所控制,为了于调整模式期间,次临限电流源连接 到偏压电流源,及于操作模式期间,调制电流源以 提供第一调制电流。19.如申请专利范围第18项之 光放射器,其中调整系执行于一经由完全服务存取 网路(FSAN)规格所定义之时间间隔期间。20.如申请 专利范围第19项之光发射器,其中临限位准系选择 成用以分离来自雷射之光强度成为光高位准及光 学低位准。21.如申请专利范围第20项之光发射器, 其中预定位准系选择成为了光学低位准足够大到 能够精确检测及控制。图式简单说明: 图1系图示一光学传送器系统,其使用本发明一实 施例之驱动电路。 图2系图示于图1如本发明一实施例之驱动电路图 。 图3A系图示偏压电流调整期间,本发明一实施例之 光电流特性图。 图3B系图示在偏压电流调整后,本发明一实施例之 光电流特性图。 图4系图示图1中本发明一实施例之控制电路图。
地址 美国