| 发明名称 |
Basin for treating semiconductor materials |
| 摘要 |
Published without abstract.
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| 申请公布号 |
DE3623233(A1) |
申请公布日期 |
1987.01.15 |
| 申请号 |
DE19863623233 |
申请日期 |
1986.07.10 |
| 申请人 |
AIGO,SEIICHIRO |
发明人 |
AIGO,SEIICHIRO |
| 分类号 |
C23G3/00;B05C3/109;C25D17/00;C25F7/00;H01L21/00;H01L21/027;H01L21/30;H01L21/304;H01L21/306;(IPC1-7):B05C3/109;G03D3/02 |
主分类号 |
C23G3/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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