发明名称 气体激光装置
摘要 一种气体激光装置,它装备具有介质气体在压力下流动的介质回路的激光振荡部、调整流过激光振荡部的介质回路的介质气体的组成的气体组成调整部。气体组成调整部具有:把组成不同的多种介质气体可调整各自流量地供给激光振荡部的介质回路的供气部、从激光振荡部的介质回路排出气体的排气部、遵照包含由激光振荡部振荡的激光光束的作用对象物体的属性以及作用精度的至少一方的振荡条件、控制供气部以及排气部、调整流过介质回路的介质气体的组成的控制部。
申请公布号 CN100470967C 申请公布日期 2009.03.18
申请号 CN200610085099.5 申请日期 2006.05.31
申请人 发那科株式会社 发明人 佐藤孝德;村上孝文;江川明
分类号 H01S3/104(2006.01)I;H01S3/036(2006.01)I;H01S3/22(2006.01)I 主分类号 H01S3/104(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人 许 静
主权项 1. 一种气体激光装置,其装备具有介质气体(M)在压力下流动的介质回路(12)的激光振荡部(14)、调整流过该激光振荡部的该介质回路的介质气体的组成的气体组成调整部(16),其特征在于,所述气体组成调整部具有:把组成不同的多种介质气体(M1、M2…)可调整各自流量地供给所述激光振荡部的所述介质回路的供气部(18),从所述激光振荡部的所述介质回路排出介质气体的排气部(20),遵照包含由所述激光振荡部振荡的激光光束的加工对象物体的属性以及加工精度的至少一方的振荡条件(C)控制所述供气部以及所述排气部、调整流过所述介质回路的介质气体的组成的控制部(22),该控制部遵照包含所述振荡条件的激光加工程序中所述振荡条件的变更指示,在控制所述供气部停止供气的同时,控制所述排气部,在控制所述排气部从所述介质回路实质上排出了全部介质气体后,控制所述供气部,使遵照从所述多种介质气体得到的所述振荡条件的最佳组成的介质气体供给所述介质回路。
地址 日本山梨县