具有包括凹面镜和凸面镜的聚光器的光刻投影装置

摘要

一种光刻投影装置，包括具有聚光器的EUV辐射源，该聚光器具有位于一凹表面上的第一反射器和位于一凸表面上的第二反射器，用于获得会聚的EUV辐射光束。这些表面用于安装反射镜。这意味着聚光器下游的反射镜可以省略。

主权项

1、一种光刻投影装置，包括用于产生发散辐射的辐射源和位于所述辐射源(51)附近的至少一个聚光器(59；63；73)，所述聚光器用于聚集所述发散辐射以提供辐射投影光束(52)，其特征在于：所述至少一个聚光器包括在一凹表面(53)上的第一反射器和在一凸表面(55)上的第二反射器，所述凹表面(53)环绕凸表面(55)，并且所述凹表面(53)上的第一反射器被设置成接收来自所述辐射源(51)的发散辐射并将它反射到位于所述凸表面(55)上的第二反射器以产生所述辐射投影光束(52)。