PROCEDE DE REVETEMENT DE SUBSTRATS DANS UNE CHAMBRE A VIDE

摘要

DANS LES PROCEDES JUSQU'A MAINTENANT UTILISES D'APPLICATION DE COUCHES SUR DES SURFACES AU MOYEN DE REACTIONS CHIMIQUES AVEC DES GAZ QUI SONT INTRODUITS DANS LA ZONE DE REACTION (CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, CVD), POUR L'ACTIVATION DES REACTANTS SONT UTILISEES DES DECHARGES ELECTRIQUES LUMINESCENTES ET PRINCIPALEMENT DES DECHARGES A HAUTE FREQUENCE. L'INVENTION PROPOSE DE MAINTENIR PENDANT LE REVETEMENT UNE DECHARGE D'ARC A BASSE TENSION DANS LA ZONE DE REACTION. ON OBTIENT AINSI DE FACON SURPRENANTE UNE ACTIVATION ET UNE IONISATION BEAUCOUP PLUS FORTES ET UN REVETEMENT PLUS UNIFORME MEME SUR DES SURFACES DE FORME ASSEZ COMPLIQUEE.