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Verbindungen der Formel I <IMAGE> eignen sich in Kombination mit Verbindungen, die unter Einfluss aktinischer Strahlung Säure abspalten, als positive Photoresists. In der Formel I bedeuten R¹ und R² Wasserstoff, Alkyl, Aryl, Cycloalkyl, Aralkyl oder Alkaryl, R³-R<8> Wasserstoff oder Niederalkyl, X -O- oder -NR<9>-, R<9> Wasserstoff oder C1-C4Alkyl, n 0 oder 1, m 2, 3 oder 4 und Q einen m-wertigen organischen Rest. Die Photoresists eignen sich zur Herstellung von Druckformen, gedruckten Schaltungen, integrierten Schaltkreisen oder silberlosen photographischen Filmen.
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