发明名称 ION BEAM IMPLANT SYSTEM
摘要 <p>A charge forming system and apparatus (20) for introducing ion source materials (24) into the ion source vaporizer (10) of an ion implant instrument.</p>
申请公布号 WO1986006874(A1) 申请公布日期 1986.11.20
申请号 US1985000929 申请日期 1985.05.17
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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