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发明名称
ION BEAM IMPLANT SYSTEM
摘要
<p>A charge forming system and apparatus (20) for introducing ion source materials (24) into the ion source vaporizer (10) of an ion implant instrument.</p>
申请公布号
WO1986006874(A1)
申请公布日期
1986.11.20
申请号
US1985000929
申请日期
1985.05.17
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
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