发明名称 |
FLUIDIZED LAYER HEATER FOR TREATING SEMICONDUCTOR |
摘要 |
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申请公布号 |
JPS61204930(A) |
申请公布日期 |
1986.09.11 |
申请号 |
JP19860042845 |
申请日期 |
1986.03.01 |
申请人 |
FUOOKASU SEMICONDUCTOR SYST INC |
发明人 |
IMATSUDO MAHAUIRI |
分类号 |
H01L21/205;B01J8/18;C30B25/10;C30B31/12;C30B33/00;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31 |
主分类号 |
H01L21/205 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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