| 发明名称 | N，N-二代羧酸酰胺类的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种制造式(I)所示的N，N-二代羧酸酰胺类的新方法。它包括在式(IV)所示的硅烷化合物的存在下，使式(II)所示的席夫碱与式(III)所示的羧酸衍生物接触，接触过程中有或没有惰性的有机溶剂存在。制造可用于例如医药品、农用化学品、以及它们的起始原料或中间体的制造上的式(I)所示的N，N-二代羧酸酰胺类。 | ||
| 申请公布号 | CN86100282A | 申请公布日期 | 1986.07.16 |
| 申请号 | CN86100282 | 申请日期 | 1986.01.15 |
| 申请人 | 德山曹达株式会社 | 发明人 | 加藤祥三;冈本秀则 |
| 分类号 | C07C103/30;C07D333/06;C07D303/10;C07D317/14;C07D213/36;C07D239/26;C07D277/22;C07D271/10;C07D261/08 | 主分类号 | C07C103/30 |
| 代理机构 | 上海专利事务所 | 代理人 | 全永留 |
| 主权项 | 1、一种制造式(I)所示的N，N-二代羧酸酰胺类的方法，所述方法包括在式(Ⅳ)所示的硅烷化合物的存在下使式(Ⅱ)所示的席夫碱与式(Ⅲ)所示的羧酸衍生物接触，接触过程中有或没有惰性的有机溶剂存在。<img file="86100282_IMG2.GIF" wi="1140" he="373" />在式(I)中，R表示氢原子、烷基、链烯基、烷氧基、链烯氧基、取代的羰基或者三卤代甲基；R<sup>1</sup>，R<sup>2</sup>和R<sup>3</sup>(彼此独立)表示取代或未取代烷基、取代或未取代链烯基、取代或未取代炔基、取代或未取代芳基、取代或未取代杂芳基、取代或未取代环烷基、取代或未取代环链烯基、或者取代或未取代杂环烷基；R<sup>1</sup>还可表示氢原子；R和R<sup>1</sup>以及与它们键合碳原子一起可形成取代或未取代环状基。<img file="86100282_IMG3.GIF" wi="1133" he="233" />在式(Ⅱ)中的R，R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>是按上述的规定。<img file="86100282_IMG4.GIF" wi="1113" he="173" />在式(Ⅲ)中的R<sup>3</sup>是按上述的规定，M表示卤原子或<img file="86100282_IMG5.GIF" wi="177" he="177" />部分。<img file="86100282_IMG6.GIF" wi="1133" he="340" />在式(Ⅳ)中的X，Y和Z(彼此独立)，表示氢原子或卤原子。 | ||
| 地址 | 日本山口县德山市御影町1番1号 | ||