| 发明名称 |
DISPERSION AQUEUSE D'ANHYDRIDE SILICIQUE ET COMPOSITION ABRASIVE COMPRENANT CETTE DISPERSION |
| 摘要 |
<P>DISPERSION AQUEUSE D'ANHYDRIDE SILICIQUE COMPRENANT UN SOLVANT AQUEUX ET DE L'ANHYDRIDE SILICIQUE DISPERSE DANS CE SOLVANT.</P><P>L'ANHYDRIDE SILICIQUE A UNE DENSITE SUPERFICIELLE DE GROUPEMENTS SILANOL DE 0,3 A 3 POUR 100.10 M ET EST OBTENU PAR TRAITEMENT DE SURFACE D'ANHYDRIDE SILICIQUE PRODUIT PAR UN PROCEDE PAR VOIE SECHE.</P><P>LA DISPERSION AQUEUSE EST UTILISABLE COMME ABRASIF, NOTAMMENT POUR DES SUBSTRATS SEMI-CONDUCTEURS.</P>
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| 申请公布号 |
FR2574064(A1) |
申请公布日期 |
1986.06.06 |
| 申请号 |
FR19850017963 |
申请日期 |
1985.12.04 |
| 申请人 |
MITSUBISHI CHEMICAL IND LTD |
发明人 |
KATSUHISA KOHYAMA, TSUNEO KIMURA, TERUO KIDERA ET YUKIO KAJIWARA;KIMURA TSUNEO;KIDERA TERUO;KAJIWARA YUKIO |
| 分类号 |
C01B33/12;C01B33/14;C01B33/141;C01B33/145;C01B33/18;C09K3/14;H01L21/306;(IPC1-7):C01B33/141 |
主分类号 |
C01B33/12 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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