发明名称 Operation and use of a noble gas ion laser.
摘要 Es wird ein miniaturisierter Edelgasionenlaser vorgeschlagen, dessen Entladungssäule einen Durchmesser zwischen 6 × 10<->³ cm und 8 × 10<->² cm hat. Bevorzugte Ausführung: Eine BeO-Platte (1) ist durch zwei Metallteile (2,3), die jeweils einer ihrer Grundflächen anliegen, eingeschlossen. Das eine Metallteil (2) ist ein als Anode fungierendes Kupferblech, das andere Metallteil bildet einen Hohlraum, in dem sich die Kathode befindet. Die BeO-Platte (1) ist mit einer Längsbohrung (7) versehen, die beidseitig durch Spiegel (5,6) abgeschlossen wird und über Plattendurchbrüche (10, 11, 12) mit der Anode (2) und dem Kathodenraum kommuniziert. Die Bohrung ist 0,1 mm stark und 30 mm lang, die Entladung findet auf einer Strecke von 10 mm statt, Entlaungsstrom, Entladungsspannung und Fülldruck liegen bei 200 mA, 130 V und 5 Torr; die Ausgangsleistung beträgt etwa 1 mW. Dieser Lasertyp ist sehr kompakt; er eignet sich insbesondere als frequenzstabiler Signalgeber und kann einfach amplituden- und/oder frequenzmoduliert werden.
申请公布号 EP0177729(A1) 申请公布日期 1986.04.16
申请号 EP19850110690 申请日期 1985.08.26
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 SEELIG, WOLFGANG, PROF. DR.
分类号 H01S3/03;H01S3/032;H01S3/097;(IPC1-7):H01S3/03 主分类号 H01S3/03
代理机构 代理人
主权项
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