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发明名称
IMPROVED POSITIVE-WORKING RESIST MATERIALS AND THEIR USE IN A FORMATION OF A NEGATIVE RESIST PATTERN ON A SUBSTRATE
摘要
申请公布号
IE50312(B1)
申请公布日期
1986.04.02
申请号
IE19800001824
申请日期
1980.08.29
申请人
FUJITSU LIMITED
发明人
分类号
G03F7/038;G03F7/004;G03F7/105;G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/26;H01L21/312
主分类号
G03F7/038
代理机构
代理人
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地址
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