发明名称 IMPROVED POSITIVE-WORKING RESIST MATERIALS AND THEIR USE IN A FORMATION OF A NEGATIVE RESIST PATTERN ON A SUBSTRATE
摘要
申请公布号 IE50312(B1) 申请公布日期 1986.04.02
申请号 IE19800001824 申请日期 1980.08.29
申请人 FUJITSU LIMITED 发明人
分类号 G03F7/038;G03F7/004;G03F7/105;G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/26;H01L21/312 主分类号 G03F7/038
代理机构 代理人
主权项
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