MATERIAL VAPOR DEPOSITION TECHNIQUE.

摘要

On obtient avantageusement des couches déposées en utilisant une procédure de déposition de la phase vapeur spécifique. Dans cette procédure, un substrat est placé à une distance relativement courte de la source d'un écoulement de gaz capable de produire la déposition désirée. Cet écoulement de gaz est dirigé de manière à entrer en contact avec une région intérieure du substrat et à s'écarter du point de contact initial pour se diriger vers un point situé sur la périphérie du substrat. Le positionnement d'un substrat (23) à une courte distance au-dessus d'une fritte de quartz fondue (101) à travers laquelle est dirigé l'écoulement de gaz de déposition (30) est caractéristique des configurations similaires d'écoulement de gaz.