发明名称 |
用于产生气体电浆之方法与装置、用于产生电浆之气体组成物以及使用气体组成物来制造半导体元件之方法 |
摘要 |
一种用于产生电浆的方法与装置,和一种用于使用该电浆制造半导体元件的方法与装置。一气体沿着与该主要磁场的磁力线具相同位移量之流动路径而流动,同时高频交流电被施加至该气体,从而产生一气体电浆。将该气体电浆馈入一加工腔体内,以进行用于制造半导体元件的程序。 |
申请公布号 |
TW200408315 |
申请公布日期 |
2004.05.16 |
申请号 |
TW092102993 |
申请日期 |
2003.02.13 |
申请人 |
三星电子股份有限公司;新动力电浆股份有限公司 NEW POWER PLASMA CO., LTD 大韩民国 |
发明人 |
闵泳敏;崔大圭;道仁;杨润植;黄完九;金镇满 |
分类号 |
H05H1/46;H01L21/00 |
主分类号 |
H05H1/46 |
代理机构 |
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代理人 |
恽轶群;陈文郎 |
主权项 |
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地址 |
韩国 |