发明名称 DISPOSITIF DE NITRURATION PAR IMPLANTATION IONIQUE D'UNE PIECE EN ALLIAGE DE TITANE ET PROCEDE METTANT EN OEUVRE UN TEL DISPOSITIF.
摘要 L'invention concerne un dispositif d'implantation d'ions dans une pièce en alliage de titane(5) comportant une source d'ions (6) délivrant des ions accélérés par une tension d'extraction et des premiers moyens de réglage (7-11) d'un faisceau initial (f1') d'ions émis par ladite source (6) en un faisceau d'implantation (f1). Ladite source (6) est une source à résonance cyclotronique électronique produisant le faisceau initial (f1') d'ions multi-énergies qui sont implantés dans la pièce (5) à une température inférieure à 500°C. L'implantation de ces ions multi-énergies du faisceau d'implantation (f1 ) réglé par l'intermédiaire des dits moyens de réglage (7-11) est effectuée simultanément à une profondeur contrôlée par la tension d'extraction de la source.
申请公布号 FR2907469(A1) 申请公布日期 2008.04.25
申请号 FR20060009104 申请日期 2006.10.18
申请人 QUERTECH INGENIERIE SOCIETE A RESPONSABILITE LIMITEE 发明人 BUSARDO DENIS
分类号 C23C14/48;C22C14/00;C23C14/58 主分类号 C23C14/48
代理机构 代理人
主权项
地址