| 摘要 |
互いに略平行状に配置された一対の絶縁基板（２、２）と、これら一対の絶縁基板（２、２）の内面（２ａ、２ａ）に形成されたＩＴＯ電極（３、３）と、各ＩＴＯ電極（３）の内表面（３ａ）に形成された暗電流制御層（４、４）と、一対の絶縁基板（２、２）間で各ＩＴＯ電極（３）及び各暗電流制御層（４）を介して挟持されたフォトリフラクティブ複合材料（５）とを備えた高速応答性フォトリフラクティブポリマー素子（１）とする。フォトリフラクティブ複合材料（５）に、フォトリフラクティブポリマーであるポリトリアリールアミン（ＰＴＡＡ）を含有させ、暗電流制御層（４）を単一層の単分子膜又は複数層の単分子膜とすることで、応答性を格段に向上させた高速応答性フォトリフラクティブポリマー素子とした。 |
