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发明名称 POSITIVE-TYPE PHOTORESIST COMPOSITIONS
摘要
申请公布号 GB2124400(B) 申请公布日期 1985.11.06
申请号 GB19830014459 申请日期 1983.05.25
申请人 * SUMITOMO CHEMICAL COMPANY LIMITED 发明人 MAKATO * HANABATA;AKIHIRO * FURUTA;SEIMEI * YASUI;KUNIKIKO * TANAKA
分类号 G03F7/022;G03F7/023;G03F7/032;H01L21/027;(IPC1-7):G03C1/52 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
主权项
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