| 发明名称 |
Apparatus for optical micro-lithography with a local alignment system. |
| 摘要 |
<p>Le système d'alignement local comprend un séparateur de faisceau (30) entre l'objectif de photoréduction (22) et la plaquette (2) de circuits intégrés, un objectif de visée (32), une source d'éclairement (S') et un motif d'alignement (36) situé dans le plan focal (35) de l'objectif de visée (32). La source (S') éclaire une zone de la plaquette (2) autour de la marque de repérage (24) associée à chaque circuit intégré (4). L'image de cette marque est renvoyée dans le plan focal (35) de l'objectif de visée. Un moyen déplace alors la plaquette pour mettre en coïncidence l'image de la marque de repérage et le motif d'alignement. Application à la fabrication des circuits intégrés.</p> |
| 申请公布号 |
EP0156683(A1) |
申请公布日期 |
1985.10.02 |
| 申请号 |
EP19850400335 |
申请日期 |
1985.02.22 |
| 申请人 |
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ETABLISSEMENT DE CARACTERE SCIENTIFIQUE TECHNIQUE ET INDUSTRIEL |
发明人 |
PICARD, BERNARD |
| 分类号 |
H01L21/30;G03F7/22;G03F9/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03B41/00 |
主分类号 |
H01L21/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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