发明名称 PROCEDE ET BAIN POUR LE DEPOT ELECTROLYTIQUE DE L'OR.
摘要 Bain exempt de citrate pour le dépot électrolytique d'alliages d'or à grande vitesse sur des substrats, qui comprend une source d'or (par exemple du cyanure d'or (I) et de potassium), une source de métal d'alliage (par exemple du sulfate de nickel), de l'acide oxalique et de l'acide formique. En raison de l'absence de citrate, de plus grandes vitesses de dépot sont obtenues et la précipitation de certains citrates salins (par exemple le citrate de nickel) est évitée.
申请公布号 BE901632(A1) 申请公布日期 1985.05.29
申请号 BE19850214437 申请日期 1985.02.01
申请人 OMI INTERNATIONAL CORPORATION 发明人
分类号 C25D3/62;(IPC1-7):C25D/ 主分类号 C25D3/62
代理机构 代理人
主权项
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