| 发明名称 |
Automatic repetitive registration and image wise exposure of sheet substrates |
| 摘要 |
Method and apparatus for registering and imagewise exposing to actinic radiation a sequence of similar sheet substrates. A liquid layer separates the photosensitive layer and each photomask during the exposure step.
|
| 申请公布号 |
US4518667(A) |
申请公布日期 |
1985.05.21 |
| 申请号 |
US19820387534 |
申请日期 |
1982.06.11 |
| 申请人 |
E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY |
发明人 |
HEIART, ROBERT B.;COHEN, ABRAHAM B. |
| 分类号 |
G03B27/02;G03F7/20;G03F7/22;H05K3/00;H05K3/02;(IPC1-7):G03F9/00 |
主分类号 |
G03B27/02 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
