| 发明名称 |
PHOTOETCHING RESIST COMPOSITION FOR FAR ULTRAVIOLET RAYS |
| 摘要 |
A lithographic resist for use with deep ultra-violet radiation comprising an acidic resin and a diazohomotetramic acid sensitizer. |
| 申请公布号 |
JPS6014235(A) |
申请公布日期 |
1985.01.24 |
| 申请号 |
JP19840047323 |
申请日期 |
1984.03.14 |
| 申请人 |
INTERN BUSINESS MACHINES CORP |
发明人 |
NIKORASU JIEFURIISU KUREKATSUKU;DENISU RICHIYAADO MATSUKIIN;ROBAATO DENISU MIRAA;TERII KIYADEI TONPUKINSU;KAARUTON GURANTO UIRUSON |
| 分类号 |
G03F7/20;C07D213/77;G03C1/72;G03C5/08;G03F7/008;G03F7/016;G03F7/022;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03C1/72;G03F7/08 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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