发明名称 |
一种清洗和腐蚀电子显示器以及衬片的组合物 |
摘要 |
本发明涉及的是一种用于清洗和腐蚀加工各类电子显示器及其衬片表面的组合物。本发明涉及的这种组合物,通过清洗,特别有效地去除表面上的各种沾污物;腐蚀电子显示器、石英装置、晶片及半导体晶片加工过程的SiO#-[2]和Si衬片。按照本发明,更有效更方便的清洗和腐蚀是可能的。也能使其表面的粗糙度得以改进。另外,本发明的这种组合物,可以制成适当的粉末,以便用于制备一定量的溶液。这为运输、处理和储存提供了方便。 |
申请公布号 |
CN1064986C |
申请公布日期 |
2001.04.25 |
申请号 |
CN98800045.8 |
申请日期 |
1998.01.21 |
申请人 |
李起元 |
发明人 |
李起元 |
分类号 |
C09K13/04;C03C15/00;C23F1/24;H01L21/306;H01L21/465 |
主分类号 |
C09K13/04 |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
王维玉 |
主权项 |
权利要求书1.一种在电子显示器、石英装置、半导体晶片的制造过程中,用于化学清洗和/或腐蚀SiO2、SiNx、铝及铝合金的组合物,该组合物包括:a)0.1~50wt%的氟化物,以总的成份重量计;b)0.8~40wt%的从磺酸、磺酸盐、过硫酸盐所组成的集合中至少选取一种,以总的成份重量计;和c)任选0.01~10wt%的抑制剂和/或0.5~20wt%的反应加速剂,其中,被选为组分b)的磺酸或磺酸盐要添加0.2~40wt%的醇和/或0.2~40wt%的过硫酸盐,而且,其中被选为组分b)的过硫酸盐要添加0.01~10wt%的表面活性剂。 |
地址 |
韩国京畿道 |