发明名称 |
酸化層を備える低コストインターポーザ |
摘要 |
いくつかの実施態様は、基板と、基板内のビアと、酸化層とを含むインターポーザを提供する。ビアは、金属材料を含む。酸化層は、ビアと基板との間にある。いくつかの実施態様では、基板は、シリコン基板である。いくつかの実施態様では、酸化層は、基板を熱に曝露することによって形成された熱酸化物である。いくつかの実施態様では、酸化層は、ビアと基板との間の電気的絶縁を提供するように構成されている。いくつかの実施態様では、インターポーザは、また、絶縁層を含む。いくつかの実施態様では、絶縁層は、ポリマー層である。いくつかの実施態様では、インターポーザは、また、インターポーザの表面上の少なくとも1つの相互接続部を含む。少なくとも1つの相互接続部は、酸化層が相互接続部と基板との間にあるように、インターポーザの表面上に配置されている。 |
申请公布号 |
JP2016514909(A) |
申请公布日期 |
2016.05.23 |
申请号 |
JP20160507607 |
申请日期 |
2014.04.08 |
申请人 |
クアルコム,インコーポレイテッド |
发明人 |
シーチュン・グ;ウルミ・レイ;ロアウェン・チェン;ブライアン・マシュー・ヘンダーソン;ラティボル・ラドイチッチ;マシュー・ノワック;ニコラス・ユ |
分类号 |
H01L23/14;H01L23/12;H01L23/32 |
主分类号 |
H01L23/14 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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