| 摘要 |
투명 도전성 필름이 개시되며, 상기 투명 도전성 필름은 플라스틱을 포함하는 무코팅 기재; 고밀도 플라즈마 강화 화학 기상 증착법(HD-PECVD)에 의해 상기 무코팅 기재 상에 형성되며, 무기 산화물을 포함하며 굴절율이 1.6 내지 2.0이고 두께가 0.4 ㎛ 내지 1.0 ㎛인 제1 적층체; 고밀도 플라즈마 강화 화학 기상 증착법에 의해 상기 제1 적층체 상에 형성되며, 상기 제1 적층체에 포함된 무기 산화물과 상이한 무기 산화물을 포함하며 굴절율이 1.3 내지 1.5이고 두께가 30 nm 내지 80 nm인 제2 적층체; 및 상기 제2 적층체 상에 형성되며 두께가 15 nm 내지 50 nm인 투명 도전층을 포함한다. |
