发明名称 SILICA BASE FOR DENTRIFRICE AND PROCESS FOR ITS PREPARATION
摘要 Base de silice pour dentifrice possédant une excellente transparence et une stabilité prolongée, la capacité abrasive désirée, une surface spécifique de 5 à 60 m2/g mesurée selon les procédés BET ou CTAB, la différence étant égale ou inférieure à 40 m2/g, et possédant un indice de réfraction compris entre 1,42 et 1,45. Ce composé peut être préparé en faisant réagir une solution de silicate de métal alcalin avec de l'acide chlorhydrique ou sulfurique en présence d'un électrolyte, en rendant au moins égal à 5 : 3 le rapport entre la vitesse d'adjonction d'ions chlorure ou sulfate dans une étape de précipitation de silice au cours de laquelle le pH du système de réaction atteint 10,0 et cette même vitesse d'adjonction dans une étape de neutralisation consistant à donner au pH du système de réaction une valeur comprise entre 8,0 et 6,5, en complétant l'étape de neutralisation en l'espace de 30 minutes et en laissant reposer pendant au moins dix minutes.
申请公布号 WO8403439(A1) 申请公布日期 1984.09.13
申请号 WO1984JP00071 申请日期 1984.02.28
申请人 TAKI CHEMICAL CO., LTD. 发明人 SHINPO, SHOZO;FUSHINO, TETSUO;HACHIJO, AKIHIRO;OHTSU, SHOZO
分类号 C01B33/187;A61K8/00;A61K8/25;A61Q11/00;C01B33/12;C01B33/193;(IPC1-7):61K7/16;01B33/187 主分类号 C01B33/187
代理机构 代理人
主权项
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