发明名称 |
METHOD OF MANUFACTURE OF LIGHT-SENSITIVE AND ENGRAVING DIAZOTYPE LAYERS |
摘要 |
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申请公布号 |
PL240048(A1) |
申请公布日期 |
1984.07.16 |
申请号 |
PL19830240048 |
申请日期 |
1983.01.05 |
申请人 |
POLITECHNIKA WARSZAWSKA |
发明人 |
ELSNER BOHDAN;CICHON MARIAN;OLEJNICZAK LESZEK;PIATKOWSKI FELICJAN |
分类号 |
G03C;G03C1/52;(IPC1-7):G03C/ |
主分类号 |
G03C |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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