| 摘要 |
<p>Dans la production de dispositifs à semiconducteur, une image d"un tracé de circuit est projetée sur une tranche de semiconducteur. Afin d"obtenir une mise au point précise, un dispositif de focalisation est pourvu de jets d"air (68) disposés à proximité immédiate de la zone d"exposition. La contre-pression des jets d"air (68) est détectée par des capteurs (70) de manière à déterminer la distance entre l"unité optique (10) du système de photo-exposition et la surface de la tranche de semiconducteur (14) qui est exposée. La contre-pression moyenne est utilisée pour commander le mouvement du système optique (10). Un relevé topographique de l"abération de surface de la tranche (14) peut être obtenu en mesurant la position de la caméra à chaque emplacement du dé après l"obtention de la focalisation. </p> |
