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发明名称 FOTOLACKE ZUR AUSBILDUNG VON RELIEFSTRUKTUREN AUS HOCHWAERMEBESTAENDIGEN POLYMEREN
摘要
申请公布号 DE3233912(A1) 申请公布日期 1984.03.15
申请号 DE19823233912 申请日期 1982.09.13
申请人 MERCK PATENT GMBH 发明人 KLUG,RUDOLF,DIPL.-CHEM.DR.;HAERTNER,HARTMUT,DIPL.-CHEM.DR.;MERREM,HANS-JOACHIM,DIPL.-CHEM.DR.;NEISIUS,KARL-HEINZ,DIPL.-CHEM.DR.
分类号 G03F7/004;C08F291/18;G03F7/027;G03F7/038;H01L21/027;(IPC1-7):G03C1/68;G03C1/71;G03F7/26 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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